電子顯微鏡技術

目前，電子顯微鏡技術(electron microscopy)已成為研究機體微細結構的重要手段。常用的有透射電鏡(transmission electron microscope，TEM)和掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)。與光鏡相比電鏡用電子束代替了可見光，用電磁透鏡代替了光學透鏡并使用熒光屏將肉眼不可見電子束成像。 

成像原理 
     
  1、透射電鏡技術 
     
    透射電鏡是以電子束透過樣品經過聚焦與放大后所產生的物像， 投射到熒光屏上或照相底片上進行觀察。透射電鏡的分辨率為0.1～0.2nm，放大倍數(shù)為幾萬～幾十萬倍。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，必須制備更薄的超薄切片(通常為50～100nm)。其制備過程與石蠟切片相似，但要求極嚴格。要在機體死亡后的數(shù)分鐘釣取材，組織塊要小(1立方毫米以內)，常用戊二醛和餓酸進行雙重固定樹脂包埋,用特制的超薄切片機(ultramicrotome)切成超薄切片，再經醋酸鈾和檸檬酸鉛等進行電子染色。 
     
    電子束投射到樣品時，可隨組織構成成分的密度不同而發(fā)生相應的電子發(fā)射，如電子束投射到質量大的結構時，電子被散射的多，因此投射到熒光屏上的電子少而呈暗像，電子照片上則呈黑色。稱電子密度高(electron dense)。反之，則稱為電子密度低(electron lucent)。 
     
   2、掃描電鏡術 
     
    掃描電鏡是用極細的電子束在樣品表面掃描，將產生的二次電子用特制的探測器收集，形成電信號運送到顯像管，在熒光屏上顯示物體。(細胞、組織)表面的立體構像，可攝制成照片。 
     
    掃描電鏡樣品用戊二醛和餓酸等固定，經脫水和臨界點干燥后,再于樣品表面噴鍍薄層金膜，以增加二波電子數(shù)。掃描電鏡能觀察較大的組織表面結構，由于它的景深長，1mm左右的凹凸不平面能清所成像，故放樣品圖像富有立體感。